提高離線(xiàn)Low-E玻璃鍍膜質(zhì)量的方法

【中玻網(wǎng)】Low-E玻璃又稱(chēng)低輻射鍍膜玻璃，是在玻璃表面鍍上以銀為基礎的若干層金屬或其化合物薄膜，這些膜層具有對可見(jiàn)光高透過(guò)及對中遠紅外線(xiàn)高反射的特性，具有良好的節能效果和光學(xué)性能。真空磁控濺射法（PVD）也稱(chēng)離線(xiàn)法，可以實(shí)現復雜膜系Low-E玻璃的大規模量產(chǎn)，成為近年來(lái)Low-E玻璃的主流生產(chǎn)工藝。
　　
　　相比傳統的熱反射鍍膜玻璃，Low-E玻璃的鍍膜層數多也更薄，特別是近年來(lái)雙銀／三銀Low-E玻璃的推廣，有的產(chǎn)品需要沉積多達20多層不同材料的薄膜，這就對每層薄膜的質(zhì)量和均勻性提出了非�？量痰囊�。如果不能很好的控制單層薄膜的質(zhì)量和均勻性，這么多層薄膜累加后的顏色、透光率等光學(xué)不均勻性就會(huì )非常明顯。因此對現有的PVD鍍膜工藝來(lái)說(shuō)，提高鍍膜的質(zhì)量和均勻性是一個(gè)非常關(guān)鍵的課題。
　　
　�。惫に嚉怏w布氣均勻性
　　
　　作為膜層均勻性控制的主要手段之一，工藝氣體布氣均勻性非常重要。我們采用如下二種方法確保工藝氣體沿玻璃板寬方向分布的均勻性：
　　
　�。保┎細夤苈贩譃橹鞴芎洼o管，主管由3個(gè)質(zhì)量流量計分別控制Ar、O2、N2氣的供氣量，輔管根據陰較寬度分為3～7段，每段由一個(gè)質(zhì)量流量計單獨控制工藝氣體流量，見(jiàn)圖1。

　�。玻┲鞴芎兔慷屋o管均采用二元布氣方式（見(jiàn)圖2），確保每個(gè)噴嘴的流導一致。

　�。碴庉^磁場(chǎng)強度一致性
　　
　　根據磁控濺射的原理，磁場(chǎng)強度越大，其對電子的束縛能力越強，相應地，該處的氣體離化程度就越高，濺射速率也就越大。準確的調整陰較磁鐵的磁場(chǎng)強度在寬度方向的一致性，可以有效地控制濺射速率的橫向一致性，進(jìn)而控制薄膜沿寬度方向的均勻性。
　　
　　陰較磁場(chǎng)強度的均勻性的控制手段包括以下2個(gè)：
　　
　�。保榇_保磁場(chǎng)的強度一致性，需要對所用磁鐵的磁場(chǎng)強度進(jìn)行挑選，盡量選擇磁場(chǎng)強度一致的磁鐵。陰較裝配完畢后，采用高斯計沿陰較橫向對磁場(chǎng)強度進(jìn)行掃描測量，繪出磁場(chǎng)強度曲線(xiàn)，可采用調整磁鐵到靶材距離的方法微調該處磁場(chǎng)強度，確保磁場(chǎng)沿陰較橫向的一致性。
　　
　�。玻╆庉^使用過(guò)程中應嚴格控制冷卻水溫，并及時(shí)更換靶材，防止永磁體過(guò)熱，因其過(guò)熱不僅會(huì )導致磁場(chǎng)強度衰減，也會(huì )造成磁場(chǎng)不均現象。
　　
　　３鍍膜室真空度、溫度、干燥度控制
　　
　�。常焙愣ǖ恼婵斩�
　　
　�。保└鶕に嚉怏w流量，對分子泵抽速、數量配置和安裝位置進(jìn)行合理配置。
　　
　�。玻┩晟瓶煽康那皇颐芊�，所有的動(dòng)密封如傳動(dòng)站、翻版閥等處均采用磁流體密封，蓋板和腔室之間采用壓差密封，即對兩道密封圈之間的空間抽真空，從而提高大型密封面的密封效果。
　　
　�。常┻M(jìn)出片過(guò)渡室內部各布置2～3套阻流器，減少門(mén)閥開(kāi)啟閉合對鍍膜室內真空度的擾動(dòng)。
　　
　�。常矞囟瓤刂�
　　
　　陰較及鍍膜室腔體通軟化水冷卻，并對進(jìn)出水的溫度和流量進(jìn)行監控。
　　
　�。常掣稍锒瓤刂�
　　
　�。保�玻璃清洗完畢后應確保干燥充分。
　　
　�。玻┥a(chǎn)線(xiàn)旁應布置干燥壓縮空氣（CDA）儲氣罐，在空氣濕度大的時(shí)候，進(jìn)出片室在充氣時(shí)可選擇接通CDA，以減少進(jìn)入腔室內的水蒸氣分子。
　　
　�。常┰阱兡な胰肟谔幵O置低溫冷阱，用于捕獲進(jìn)入腔室內的水蒸氣分子。